博文
2019年光学和摄影领域的专利竞争态势——佳能、京东方、三星显示领先
|
2019年中美欧日韩五局发明专利统计报告博客版997.docx
2019年中国、美国、欧洲、日本、韩国五局发明专利统计分析报告（附录第一部分）
中美欧日韩五局专利数据统计分析小组
第二部分 2019年美国发明专利统计分析报告
19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争
19.24 光学和摄影领域的专利竞争态势
第24个技术领域是光学和摄影，主要包括光学元件、眼镜、照相器材和感光材料。2019年，美国专利商标局在该领域共授权专利21935项（增长率为21%），占总授权量的6.2%，是专利数量第2多的领域。
2019年，美国在该领域获得专利权6100项，占该领域专利授权总量的28%。中国在该领域做出专利发明2370项，获得专利权2304项，流失专利发明66项。日本和韩国获得的专利权数量分别为7505和1968项。
表19.24-1 2019年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量
国家 | 发明 数量 | 专利权数量 | 净流失数量 | 专利流失率 | 发明份额 | 专利权份额 | 份额流失量 | |
1 | 美国 | 5885 | 6100 | -215 | -4% | 26.8% | 27.8% | -1.0% |
2 | 日本 | 7425 | 7505 | -80 | -1% | 33.9% | 34.2% | -0.4% |
3 | 韩国 | 1928 | 1968 | -40 | -2% | 8.8% | 9.0% | -0.2% |
4 | 中国 | 2370 | 2304 | 66 | 3% | 10.8% | 10.5% | 0.3% |
5 | 德国 | 679 | 614 | 65 | 10% | 3.1% | 2.8% | 0.3% |
6 | 法国 | 314 | 301 | 13 | 4% | 1.4% | 1.4% | 0.1% |
7 | 加拿大 | 318 | 224 | 94 | 30% | 1.4% | 1.0% | 0.4% |
8 | 英国 | 245 | 162 | 83 | 34% | 1.1% | 0.7% | 0.4% |
9 | 瑞士 | 127 | 126 | 1 | 1% | 0.6% | 0.6% | 0.0% |
10 | 荷兰 | 376 | 488 | -112 | -30% | 1.7% | 2.2% | -0.5% |
11 | 瑞典 | 66 | 70 | -4 | -6% | 0.3% | 0.3% | 0.0% |
12 | 以色列 | 307 | 178 | 129 | 42% | 1.4% | 0.8% | 0.6% |
13 | 意大利 | 88 | 73 | 15 | 17% | 0.4% | 0.3% | 0.1% |
14 | 印度 | 41 | 13 | 28 | 68% | 0.2% | 0.1% | 0.1% |
15 | 其他 | 1766 | 1809 | -43 | -2% | 8.1% | 8.2% | -0.2% |
小计 | 21935 | 21935 | 0 | 0% | 100% | 100% | 0% |
注：本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计（中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利）。
图19.24-1 2019年各国光学和摄影领域的在美专利发明和专利权数量对比
2019年，在光学和摄影领域上获得专授权最多的机构是佳能、京东方、三星显示。中国专利最多的机构是京东方科技集团公司，获得862项专利。
表19.24-2 2019年光学和摄影领域在美专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 专利 | |
1 | 佳能株式会社 | 日本 | Canon Kabushiki Kaisha | 1300 |
2 | 京东方科技集团公司 | 中国 | Boe Technology Group Co., Ltd. | 862 |
3 | 三星显示公司 | 韩国 | Samsung Display Co., Ltd. | 608 |
4 | 日本显示公司 | 日本 | Japan Display Inc. | 386 |
5 | 三星电子公司 | 韩国 | Samsung Electronics Co., Ltd. | 385 |
6 | 深圳华星光电科技公司 | 中国 | Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. | 308 |
7 | 奥林巴斯株式会社 | 日本 | Olympus Corporation | 297 |
8 | 京瓷办公信息系统株式会社 | 日本 | Kyocera Document Solutions Inc. | 294 |
8 | 富士胶片公司 | 日本 | Fujifilm Corporation | 294 |
10 | 柯尼卡美能达株式会社 | 日本 | Konica Minolta, Inc. | 293 |
注：本表数据按照第一权利人进行统计。
图19.24-2 2019年光学和摄影领域在美专利授权前10机构
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员对本报告的支持、帮助、建议和意见。同时也感谢对本报告做出贡献的一些审阅者和讨论者，包括武汉大学张琳教授、武汉大学黄颖副教授等学者。
https://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1240783.html
上一篇：2019年光电辐射测量与核物理领域的专利竞争态势——三星电子、IBM、西门子医疗领先，京东方国内第一
下一篇：2019年物理信号和控制领域的专利竞争态势——IBM、发那科、福特领先，京东方国内第一
