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2020年电热与等离子体领域在美专利的布局与竞争——三星电子、IBM、昕诺飞领先，国内京东方领先
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陈立新 张琳 黄颖：中美欧日韩五局专利报告1847.docx
█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第二部分 2020年美国发明专利统计分析报告
19 不同技术领域下世界各国及机构的在美专利布局和竞争
19.45 电热与等离子体领域的专利竞争态势
第45个技术领域是电热与等离子体，主要包括电热、电击、静电、X射线和等离子体技术。22020年，美国专利商标局在该领域共授权专利10372项（增长率为-7%），占总授权量的2.9%，是专利数量第41多的领域。
2020年，美国在该领域获得专利权4185项，占该领域专利授权总量的40%。中国在该领域做出专利发明898项，获得专利权882项，流失专利发明16项。日本和韩国获得的专利权数量分别为1977和880项。
表19.45-1 2020年各国电热与等离子体领域的在美专利发明和专利权数量
国家 和地区 | 发明 数量 | 专利权 数量 | 净流失 数量 | 专利 流失率 | 发明 份额 | 专利权 份额 | 份额 流失量 | |
1 | 美国 | 3975 | 4185 | -210 | -5% | 38.3% | 40.3% | -2.0% |
2 | 日本 | 2003 | 1977 | 26 | 1% | 19.3% | 19.1% | 0.3% |
3 | 韩国 | 885 | 880 | 5 | 1% | 8.5% | 8.5% | 0.0% |
4 | 中国 | 898 | 882 | 16 | 2% | 8.7% | 8.5% | 0.2% |
5 | 德国 | 503 | 448 | 55 | 11% | 4.8% | 4.3% | 0.5% |
6 | 法国 | 143 | 148 | -5 | -3% | 1.4% | 1.4% | 0.0% |
7 | 加拿大 | 162 | 106 | 56 | 35% | 1.6% | 1.0% | 0.5% |
8 | 英国 | 139 | 93 | 46 | 33% | 1.3% | 0.9% | 0.4% |
9 | 瑞士 | 93 | 90 | 3 | 3% | 0.9% | 0.9% | 0.0% |
10 | 荷兰 | 170 | 272 | -102 | -60% | 1.6% | 2.6% | -1.0% |
11 | 瑞典 | 36 | 51 | -15 | -42% | 0.3% | 0.5% | -0.1% |
12 | 以色列 | 63 | 41 | 22 | 35% | 0.6% | 0.4% | 0.2% |
13 | 意大利 | 80 | 40 | 40 | 50% | 0.8% | 0.4% | 0.4% |
14 | 印度 | 57 | 7 | 50 | 88% | 0.5% | 0.1% | 0.5% |
15 | 其他 | 1165 | 1152 | 13 | 1% | 11.2% | 11.1% | 0.1% |
小计 | 10372 | 10372 | 0 | 0% | 100% | 100% | 0% |
注：本表分别按照专利第一发明人和第一权利人进行统计（中国的数据暂未包含香港、澳门、台湾地区的专利）。
图19.45-1 2020年各国电热与等离子体领域的在美专利发明和专利权数量对比
2020年，在电热与等离子体领域上获得美国专利授权最多的机构是三星电子公司、国际商业机器公司、昕诺飞股份公司。中国专利最多的机构是京东方科技集团公司，获得67项专利。
表19.45-2 2020年电热与等离子体领域在美专利授权前10机构
机构名称 | 国家 | 机构英文名称 | 2020 | 2019 | |
1 | 三星电子公司 | 韩国 | Samsung Electronics Co., Ltd. | 216 | 181 |
2 | 国际商业机器公司 | 美国 | International Business Machines Corporation | 196 | 190 |
3 | 昕诺飞股份公司 | 荷兰 | Signify Holding B.V. | 174 | 133 |
4 | 苹果公司 | 美国 | Apple Inc. | 160 | 154 |
5 | 三星显示公司 | 韩国 | Samsung Display Co., Ltd. | 145 | 152 |
6 | 英特尔公司 | 美国 | Intel Corporation | 138 | 142 |
7 | 戴尔公司 | 美国 | Dell Products L.P. | 120 | 108 |
8 | 松下知识产权管理公司 | 日本 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | 119 | 178 |
9 | 富士株式会社 | 日本 | Fuji Corporation | 111 | 110 |
9 | 村田制造公司 | 日本 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 111 | 135 |
注：本表数据按照第一权利人进行统计。
图19.45-2 2020年电热与等离子体领域在美专利授权前10机构
致谢
感谢河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
https://blog.sciencenet.cn/blog-681765-1313987.html
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