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2021年株式会社富士的日本局专利状况——重点布局电气元件和结构部件、成型加工作业、半导体组件与集成电路技术
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█武汉大学科教管理与评价研究中心 陈立新 张琳 黄颖
第四部分 2021年日本发明专利统计分析报告
36 世界主要机构的日本专利布局
36.50 株式会社富士的日本专利状况
2021年，株式会社富士（日本企业，主营电子产品，其英文名称为FUJI CORPORATION）获得日本局发明专利490项，比上一年增长了-14%，是获得日本局专利授权数量第50多的机构。
相对来讲，株式会社富士专利研发的优势领域是：电气元件和结构部件、半导体组件与集成电路、电热与等离子体、物理信号和控制、纺织、造纸和印刷。在这5个技术领域上，株式会社富士的专利份额相对较高，分别占同领域日本局专利数量的3.4%至0.4%。
从绝对数量上来看，株式会社富士的重点技术领域是：电气元件和结构部件、成型加工作业、半导体组件与集成电路、物理信号和控制、纺织、造纸和印刷。在这5个领域上获得了数量最多的日本局专利，达328至27项。
可见，株式会社富士的专利技术研发和专利布局重点主要集中在电气元件和结构部件领域。
表36.50-1 2021年株式会社富士主要技术领域的专利分布
技术领域 | 专利数量 | 占比（%） | |
1 | 电气元件和结构部件 | 328 | 3.4% |
2 | 半导体组件与集成电路 | 39 | 1.0% |
3 | 电热与等离子体 | 16 | 0.5% |
4 | 物理信号和控制 | 30 | 0.4% |
5 | 纺织、造纸和印刷 | 27 | 0.4% |
6 | 成型加工作业 | 53 | 0.3% |
7 | 数据交换网络 | 3 | 0.3% |
8 | 包装和储运 | 21 | 0.3% |
9 | 电子商务和管理系统 | 15 | 0.2% |
10 | 发电和输变电 | 17 | 0.2% |
11 | 图像处理 | 8 | 0.2% |
12 | 医学治疗和护理 | 14 | 0.2% |
13 | 光电辐射测量与核物理 | 7 | 0.2% |
14 | 半导体制造 | 10 | 0.2% |
15 | 计算机一般零部件 | 5 | 0.1% |
16 | 物理测量 | 8 | 0.1% |
17 | 铁路、船舶和飞行器 | 2 | 0.1% |
18 | 一般机械和武器 | 6 | 0.1% |
19 | 分离和混合加工作业 | 5 | 0.1% |
20 | 通信传输系统 | 1 | 0.1% |
图36.50-1 2021年株式会社富士在20个相对优势领域中的专利占比
致谢
感谢大连理工大学刘则渊教授、河南师范大学梁立明教授、科技部中国科学技术发展战略研究院武夷山研究员、大连理工大学丁堃教授、大连理工大学杨中楷教授对本报告的大力支持与帮助。同时，向以不同形式对本报告提出意见和建议的专家学者们表示诚挚的感谢。
如需要中美欧日韩五局及PCT专利数据、专利报告，以及咨询相关专利问题请添加微信号。
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